JOB OPENING
ä¿ëÁ¤º¸ °Ë»ö
CMPÀåºñ ±â¼ú¿µ¾÷(ÀÓ¿ø±Þ)
![]() |
2025-07-18 ![]() |
---|
< ÂüÁ¶»çÇ×>
1. Çб³ level »ó°ü¾øÀ½(Àü¹®Çл絵 °¡´É) -->°æ·ÂÀ§ÁַΠä¿ë
2. ÀÓ¿ø Æ÷Áö¼Ç ¿¬·É´ë max 50¼¼±îÁö
3. ŸÄÏ»ç ³ëÃâ ±ÝÁö
4. ±Ù¹«Áö : ÄÉÀ̾¾ÅØ µ¿Åº R&D¼¾ÅÍ ( SRTµ¿Åº¿ª10ºÐ°Å¸®/ µ¿ÅºIC 5ºÐ°Å¸®)
5. Á÷¿ø ¹«·áÁÖÂ÷Àå¿î¿µ / ±â¼÷»çÁ¦°ø / Áß,¼®½ÄÁ¦°ø
---------------------------------------------------------------------------------------------
¢ßÄÉÀ̾¾ÅØ // www.kctech.com
µ¿»ç´Â 2017³â ÄÉÀ̾¾·ÎºÎÅÍ ¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ Àåºñ, ¼ÒÀç »ç¾÷ºÎ¹® ÀÎÀûºÐÇÒµÇ¾î ¼³¸³µÊ.
¹ÝµµÃ¼ Àåºñ´Â CMP, Wet Cleaning System, µð½ºÇ÷¹ÀÌ Àåºñ´Â Wet Station, APP µîÀ» »ý»ê,
¼ÒÀç·Î´Â Ceria, Silica Slurry µîÀ» Á¦Á¶ÇÔ.
¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ °øÁ¤¿¡ ÇÊ¿äÇÑ Àåºñ¿Í Àç·á Á¦Á¶¡¤ÆÇ¸Å¸¦ ÁÖ·ÂÀ¸·Î Áö¼Ó ¼ºÀå ÁßÀÓ.
ÄÚ½ºÇÇ »óÀå»ç,Áß°ß±â¾÷ / ¸ÅÃâ¾×:3,854 (24³â±âÁØ) / Á¾¾÷¿ø:773 ¸í
--------------------------------------------------------------------------------------------------
[Æ÷Áö¼Ç]
CMPÀåºñ ±â¼ú¿µ¾÷ ´ã´çÀÚ
[üũÆ÷ÀÎÆ®]
- ¹ÝµµÃ¼ CMP ±â¼ú(°øÁ¤±â¼ú)¿µ¾÷ Àü¹®°¡
- ÀÓ¿ø Æ÷Áö¼Ç ¿¬·É´ë max 50¼¼±îÁö /40´ëÈĹÝbest
[´ã´ç¾÷¹« ¹× Çʼö¿ª·®]
- SKÇÏÀ̴нº ±â¼ú¿µ¾÷ ¶Ç´Â °øÁ¤±â¼ú Ãâ½Å ¶Ç´Â ÀçÁ÷ÀÚ
- CMP °øÁ¤±â¼ú¿¡ ´ëÇÑ ±â¼úÀû ¼ÒÅë Àü¹®°¡
SKÇÏÀ̴нº CMP °øÁ¤ Ãâ½Å ¶Ç´Â CMP °øÁ¤ ±â¼ú¿¡ ´ëÇØ ±â¼úÀû ¼ÒÅëÀÌ °¡´ÉÇÑ ÀÚ,
¿µ¾÷ Æ÷Áö¼ÇÀ¸·Î¼ SK³»ºÎ °øÁ¤±â¼úÆÀ°ú ±â¼úÀûÀ¸·Î ¼ÒÅëÇÏ¸ç ¿µ¾÷ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¿ª·®ÀÌ ÇÊ¿äÇÔ
- °æ·Â 15³â ÀÌ»ó
[¿ì´ë»çÇ×]
- SKÇÏÀ̴нº °æ·Â
[±Ù¹«Á¶°Ç]
- ±Ù¹«ÇüÅ : Á¤±ÔÁ÷
- Á÷±Þ : ¼ö¼®~ÀÓ¿ø
- ±Ù¹«ºÎ¼ : ÀåºñºÎ¹® ¿µ¾÷º»ºÎ
- ÁÖ±Ù¹«Áö : ÄÉÀ̾¾ÅØ R&D¼¾ÅÍ (°æ±âµµ ȼº½Ã µ¿ÅºÃ·´Ü»ê¾÷1·Î 50)
¡¤ Á¢¼ö¹æ¹ý | |
¸¶°¨ÀÏ | ä¿ë½Ã±îÁö |
---|---|
ÀüÇüÀýÂ÷ | ¼·ùÀüÇü/¸éÁ¢ |
Á¦Ãâ¼·ù | ±¹¹®À̷¼(±¸Ã¼ÀûÀÎ °æ·Â±â¼ú Æ÷ÇÔ) |