ä¿ëÁ¤º¸ °Ë»ö

CMP°øÁ¤¿µ¾÷

µî·ÏÀÏ 2025-09-26 ÁøÇàÁß



< ÂüÁ¶»çÇ×>


1. Çб³ level »ó°ü¾øÀ½(Àü¹®Çл絵 °¡´É) 

2. ¿¬·É´ë max 50¼¼ ±îÁö 

     

---------------------------------------------------------------------------------------------


¢ßÄÉÀ̾¾ÅØ // www.kctech.com

 

µ¿»ç´Â 2017³â ÄÉÀ̾¾·ÎºÎÅÍ ¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ Àåºñ¼ÒÀç »ç¾÷ºÎ¹® ÀÎÀûºÐÇÒµÇ¾î ¼³¸³µÊ

¹ÝµµÃ¼ Àåºñ´Â CMP, Wet Cleaning System, µð½ºÇ÷¹ÀÌ Àåºñ´Â Wet Station, APP µîÀ» »ý»ê

¼ÒÀç·Î´Â Ceria, Silica Slurry µîÀ» Á¦Á¶ÇÔ

¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ °øÁ¤¿¡ ÇÊ¿äÇÑ Àåºñ¿Í Àç·á Á¦Á¶¡¤ÆÇ¸Å¸¦ ÁÖ·ÂÀ¸·Î Áö¼Ó ¼ºÀå ÁßÀÓ.

 

ÄÚ½ºÇÇ »óÀå»ç,Áß°ß±â¾÷ / ¸ÅÃâ¾×:3,854 (24³â±âÁØ) / Á¾¾÷¿ø:773 ¸í

--------------------------------------------------------------------------------------------------


[Æ÷Áö¼Ç]

CMPÀåºñ °øÁ¤¿µ¾÷ 


[üũÆ÷ÀÎÆ®]

 -  SKÇÏÀ̴нº °øÁ¤±â¼ú ¿£Áö´Ï¾î °æ·Â º¸À¯

 -  50¼¼ ÀÌÇÏ ³²¼º ¼±È£


[ÀÚ°Ý¿ä°Ç]

°æ·Â10³â ÀÌ»ó

- CMP °øÁ¤±â¼ú ½Ç¹« °æÇè º¸À¯ÀÚ(¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ Áß CMP °øÁ¤ °æÇèÀÚ)
- CMP Àåºñ/¼ÒÀç Àü¹Ý¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ
- SKÇÏÀ̴нº ³» Network ¿ª·® ¿ì´ë



[¿ì´ë»çÇ×]


- SKÇÏÀ̴нº °øÁ¤±â¼ú¿£Áö´Ï¾î °æ·Â


[±Ù¹«Áö]


 ÄÉÀ̾¾ÅØ R&D¼¾ÅÍ (°æ±âµµ È­¼º½Ã µ¿ÅºÃ·´Ü»ê¾÷1·Î 50)




¡¤ Á¢¼ö¹æ¹ý
¸¶°¨ÀÏ Ã¤¿ë½Ã±îÁö
ÀüÇüÀýÂ÷ ¼­·ùÀüÇü/¸éÁ¢
Á¦Ãâ¼­·ù ±¹¹®À̷¼­(±¸Ã¼ÀûÀÎ °æ·Â±â¼ú Æ÷ÇÔ)
µî·ÏÇϱâ
¸ñ·Ïº¸±â