JOB OPENING
ä¿ëÁ¤º¸ °Ë»ö
CMP°øÁ¤¿µ¾÷
![]() |
2025-09-26 ![]() |
---|
< ÂüÁ¶»çÇ×>
1. Çб³ level »ó°ü¾øÀ½(Àü¹®Çл絵 °¡´É)
2. ¿¬·É´ë max 50¼¼ ±îÁö
---------------------------------------------------------------------------------------------
¢ßÄÉÀ̾¾ÅØ // www.kctech.com
µ¿»ç´Â 2017³â ÄÉÀ̾¾·ÎºÎÅÍ ¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ Àåºñ, ¼ÒÀç »ç¾÷ºÎ¹® ÀÎÀûºÐÇÒµÇ¾î ¼³¸³µÊ.
¹ÝµµÃ¼ Àåºñ´Â CMP, Wet Cleaning System, µð½ºÇ÷¹ÀÌ Àåºñ´Â Wet Station, APP µîÀ» »ý»ê,
¼ÒÀç·Î´Â Ceria, Silica Slurry µîÀ» Á¦Á¶ÇÔ.
¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ °øÁ¤¿¡ ÇÊ¿äÇÑ Àåºñ¿Í Àç·á Á¦Á¶¡¤ÆÇ¸Å¸¦ ÁÖ·ÂÀ¸·Î Áö¼Ó ¼ºÀå ÁßÀÓ.
ÄÚ½ºÇÇ »óÀå»ç,Áß°ß±â¾÷ / ¸ÅÃâ¾×:3,854 (24³â±âÁØ) / Á¾¾÷¿ø:773 ¸í
--------------------------------------------------------------------------------------------------
[Æ÷Áö¼Ç]
CMPÀåºñ °øÁ¤¿µ¾÷
[üũÆ÷ÀÎÆ®]
- SKÇÏÀ̴нº °øÁ¤±â¼ú ¿£Áö´Ï¾î °æ·Â º¸À¯
- 50¼¼ ÀÌÇÏ ³²¼º ¼±È£
[ÀÚ°Ý¿ä°Ç]
- °æ·Â10³â ÀÌ»ó
- CMP °øÁ¤±â¼ú ½Ç¹« °æÇè º¸À¯ÀÚ(¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ Áß CMP °øÁ¤ °æÇèÀÚ)
- CMP Àåºñ/¼ÒÀç Àü¹Ý¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ
- SKÇÏÀ̴нº ³» Network ¿ª·® ¿ì´ë
[¿ì´ë»çÇ×]
- SKÇÏÀ̴нº °øÁ¤±â¼ú¿£Áö´Ï¾î °æ·Â
[±Ù¹«Áö]
ÄÉÀ̾¾ÅØ R&D¼¾ÅÍ (°æ±âµµ ȼº½Ã µ¿ÅºÃ·´Ü»ê¾÷1·Î 50)
¡¤ Á¢¼ö¹æ¹ý | |
¸¶°¨ÀÏ | ä¿ë½Ã±îÁö |
---|---|
ÀüÇüÀýÂ÷ | ¼·ùÀüÇü/¸éÁ¢ |
Á¦Ãâ¼·ù | ±¹¹®À̷¼(±¸Ã¼ÀûÀÎ °æ·Â±â¼ú Æ÷ÇÔ) |